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HIPIMS是高功率脉冲磁控溅射技术（High power impulse magnetron sputtering）的简称，其原理是利用较高的脉冲峰值功率和较低的脉冲占空比来产生高溅射金属离化率的一种磁控溅射技术，HIPIMS的峰值功率可以达到MW级别，但由于脉冲作用时间短，其平均功率与普通磁控溅射一样，这样阴极不会因过热赠增加靶材冷却。HIPIMS综合了磁控溅射低温沉积、表面光滑、无颗粒缺陷和电弧离子镀金属离化率高、膜层结合力强、涂层致密的优点，且离子束流不含大颗粒，在控制涂层微结构的同时获得优异的膜基结合力，在降低涂层内应力及提高膜层致密性、均匀性等方面具有闲着的优势，被认为是PVD发展史上近30年来最重要的一项技术突破，特别是在硬质涂层和功能涂层的应用方面有显著优势。

目前，我公司采用的HIPIMS电源是霍廷格TruPlasma Highpulse 4000 系列电源。同时附赠霍廷格公司的PVD Power软件。

多语种软件 PVD Power 用户界面易操作，提供多方面的操作、配置及诊断方法，以此优化工艺质量和有效排除故障：显示所有相关工艺参数的实际值以及警告和报警消息、由操作员规定目标值和以较高的时间分辨率记录重要运行参数并进行可视化（示波器功能）。